一 適用範囲
ハードディスクガラス基板や光学レンズの研磨に使用される
ブルーフィルターやフォトマスク基板の研磨に使用される
高精度光ファイバーフェルールの研磨に使用される
二 主要技術指標
化学成分 | コンテンツ |
酸化セリウム | 60‐70% |
酸化ランタン | 30-40% |
その他 | ≦5% |
化学や物理的な指標 | 基準値 |
D50 | 0.6-0.9㎛ |
D90 | ≦3㎛ |
懸濁(分) | 90-100 |
PH値 | 6-8 |
色 | 白い |
比表面積 表面積平均粒径D「3,2」 体積平均粒径「4,3」
9.95㎡/ℊ 0.603㎛ 0.854㎛
d(0.1):0.335㎛ d(0.5):0.743㎛ d(0.9):1.547㎛
三 包装・荷姿
20㎏/紙箱(ポリ袋入り) 320㎏/pallet 640㎏/pallet 960㎏/pallet
四 関連応用分野
ハードディスク基板 光学ガラス ファイバポート 光学フィルター